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我公司的二氧化硅抛光液系“一步合成法”制备，抛光胶粒致密、均匀、成球形，具有抛光效率高、粒度分布均匀、杂质含量低等特点，广泛应用于光纤器件、硅片、光学玻璃、晶体、蓝宝石、模具等各种精密器件的最后抛光。粒度、浓度、pH值可根据客户需要进行设计。

目前常用的抛光方法有以下几种： 1.1　机械抛光　机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量　要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。

摘  要：介绍了几种近代超精密研磨抛光方法的加工原理、特点、加工对象和应用。 关键词：超精密研磨；弹性发射加工；机械化学研磨；磁力研磨；超声研磨 Abstract：Introduces several methods of modern ultra-precision polishing processing principle, characteristics, objects and application. Key words：Ultra-precision grinding, Elastic emission machining, Chemical mechanical polishing, Magnetic abrasive, Ultrasonic grinding.